人工智能（AI）、邊緣運算與萬物聯(lián)網(wǎng)趨勢，帶來無所不在的感測、通訊與功率解決方案需求，化合物半導體的重要性也隨之暴增。從資料中心里的服務器、網(wǎng)通設備，到手機上的 RF 功率放大器，以及為所有電子元件供應電力的功率元件，都將因化合物半導體的普遍運用，在性能上出現(xiàn)重大突破。
5G 通訊頻率高，能源效率更顯重要
臺達 電資通訊基礎設施事業(yè)群技術長蔡文蔭就指出，在萬物聯(lián)網(wǎng)的未來，資料中心需處理的資料量將呈現(xiàn)爆發(fā)式成長，連帶使得資料中心對電源、冷卻設備的需求增加。 但在此同時，客戶也會對能源效率有更嚴格的要求。 因為能源效率即便只是增加 1%，都能為客戶創(chuàng)造出可觀的節(jié)能效益。
聯(lián)發(fā)科技處長梁正柏則從終端裝置的角度出發(fā)，分享 5G 通訊在功率方面所面臨的挑戰(zhàn)。梁正柏指出，即便在 Sub 6GHz 頻段，5G 所使用的通訊頻率也高于 4G。光是在 RF 前端，訊號損失就會增加 1~2dB；再加上手機內部能留給天線的空間越來越小，5G 手機天線的性能，通常會減少 0.5~1.5dB。 EFFECT PHOTONICS 技術長 Tim Koene 表示，提到光電積體電路，業(yè)界普遍想到的都是硅光子（Silicon Photonic），并認為硅光子將在成本上擁有壓倒性優(yōu)勢，其他基于化合物半導體的光電積體電路很難與之競爭。
以耐受電壓與輸出功率為界，SiC、GaN 各有其優(yōu)勢場域
Yole Développement 電源與無線部門總監(jiān) Claire Troadec 表示，電源芯片產業(yè)大約每 20 年會有一次革命性突破，GaN on Si 與 SiC 將是引領這波新革命的要角。但由于材料特性不同，這兩種元件適合的應用市場也有所區(qū)隔。一般來說，以耐受電壓 600~650 伏特為界，高于此一區(qū)間的應用會以 SiC 為主；低于此一區(qū)間的市場則會是 GaN 的主戰(zhàn)場。
就個別應用來說，SiC *重要的應用會是電動車、軌道運輸與電動車充電站；GaN *重要的應用則是消費性電源，其次是電動車與不斷電系統(tǒng)（UPS）等。
干坤科技技術長詹益仁認為，GaN 在電源領域的應用潛力自 2010 年開始受到關注，當時業(yè)界對其發(fā)展前景相當看好，投入的廠商也不少。但由于 GaN 與硅的特性不同，操作方式也不一樣，因此在商品化初期遇到相當多問題，發(fā)展并不如預期順利。直到*近一兩年，GaN 在技術上才真的達到成熟階段，可以大量商品化。
GaN Systems 亞洲區(qū)總經理 Stephen Coates 則指出，以 GaN 材料制作的功率電晶體，經過多年發(fā)展，生態(tài)系統(tǒng)已經漸趨成熟。不僅市場上已有相當多標準產品，價格也十分具有競爭力。以往客戶*有疑慮的元件可靠度問題，現(xiàn)在也已不成問題。除了消費性電源之外，GaN Systems 也有服務器、工業(yè)設備、能源儲存等領域的客戶，推出采用 GaN 功率元件的應用產品；汽車 Tier 1 客戶則正在設計導入階段。這些對元件品質、可靠度要求極為嚴謹?shù)拇怪碑a業(yè)開始采用，是 GaN 元件可靠度已經不成問題的*佳證明。
產品線橫跨 GaN 與 SiC 的意法半導體（ST）則認為，兩種產品雖然有應用重疊之處，但由于技術特性的差異，會自然形成產品區(qū)隔。意法策略行銷經理 Filippo Di Giovanni 指出，GaN 與 SiC 應用重疊的地方，落在輸出功率 1~30kW 之間的應用，低于 1kW 的應用，GaN 有明顯的優(yōu)勢，高于 30kW 的應用，則應該采用 SiC。
檢測、蝕刻、封裝陸續(xù)到位，寬能隙元件起飛可期
日月光處長邱基綜就指出，過去幾十年來，電源芯片的封裝一直在追求微型化、更好的散熱性能與更好的電氣特性，所用到的封裝技術也日益復雜。早年的電源芯片幾乎都使用打線封裝，但近年來采用覆晶封裝的電源芯片已越來越常見。
而為了進一步在單一封裝體內實現(xiàn)更高的整合度，很多芯片商已經發(fā)展出將主被動元件整合在同一個基板上的封裝技術，推出外觀看似芯片，實為電源模組（Module）的產品。
在檢測部分，科磊（KLA）區(qū)域產品行銷經理周發(fā)業(yè)表示，就 SiC 而言，*關鍵的是晶圓投片生產前的瑕疵檢測，因為 SiC 晶圓出現(xiàn)缺陷的機率較高，因此在生產前的晶圓缺陷檢測十分關鍵。GaN 元件的狀況則正好相反，GaN 元件*棘手的地方在于，蝕刻制程不能對 GaN 的結構造成損傷，否則會對元件可靠度造成負面影響。因此，針對 GaN 元件，檢測重點在蝕刻加工后的檢測。
至于在蝕刻部分，住程科技（SPTS）系統(tǒng)副總裁 Dave Thomas 認為，SiC 蝕刻*具挑戰(zhàn)性的地方在于如何加快蝕刻的速度，以及加工的終點偵測。由于 SiC 的硬度相當高，要對此材料進行快速蝕刻是比較困難的。另外，因為 SiC 元件的電晶體未來都會采用溝槽式結構，這意味著加工的終點會在盲區(qū)，要透過終點偵測把蝕刻深度控制得恰到好處，也是相對挑戰(zhàn)的任務。
而在 GaN 的蝕刻方面，誠如周發(fā)業(yè)所言，GaN 層對蝕刻制程所造成的損傷相當敏感，故在蝕刻過程中，必須放慢速度，小心翼翼地進行。目前 SPTS 已經能做到將反應爐控制在電漿即將消失的極限條件，藉此把蝕刻速度放到*慢，以盡可能避免對元件結構造成損傷。
